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摘 要
本論文設(shè)計的是為冶金工業(yè)中用來提高鎬基合金性能的設(shè)備提供必要條件的系統(tǒng)——真空獲得系統(tǒng),設(shè)計主要包括:溶煉室真空機(jī)組、熔滲室真空機(jī)組、快淬室真空機(jī)組的設(shè)計等等。
真空獲得技術(shù)是一切真空應(yīng)用的技術(shù)基礎(chǔ),真空獲得設(shè)備關(guān)系到所有真空應(yīng)用設(shè)備的運(yùn)行和使用。為了滿足設(shè)備可以在高真空的條件下工作,所以選擇合適的機(jī)械泵,羅茨泵,分子泵組成合適的真空機(jī)組,使各真空室達(dá)到工作的真空條件。
在設(shè)計中,為了使溶煉室、熔煉室達(dá)到高真空選擇機(jī)械泵與羅茨泵組成前級泵機(jī)組進(jìn)行預(yù)抽達(dá)到粗真空,分子泵為高級泵即主抽泵??齑闶以诘驼婵諚l件下工作選擇機(jī)械泵、羅茨泵進(jìn)行抽真空。密封方面,采用了機(jī)械密封,密封性能可靠。
關(guān)鍵詞:真空機(jī)組;機(jī)械泵;羅茨泵;分子泵;粗真空;高真空
Abstract
This thesis is for the metallurgical industry to improve the Ho-based alloys to provide the necessary conditions for the system equipment——Vacuum access system,Design includes:Smelting chamber vacuum unit、Infiltration chamber vacuum unit、Quenching chamber vacuum unit design and others。
Vacuum access to technology is the technical foundation for all vacuum applications,Vacuum obtain equipment related to the operation of all vacuum equipment and the use of。To meet the device can work under high vacuum conditions,So choose a suitable mechanical pumps, Roots pumps, molecular composition of a suitable vacuum pump unit,So that the work of the vacuum chamber to vacuum conditions。
In the design,In order to smelting room, select the melting chamber to high vacuum mechanical pump and Roots pump before the pump unit composed of pre-pumping to rough vacuum,High molecular pump that is the main pumping pumps。Quenched room to work in low vacuum conditions select mechanical pump, Roots vacuum pump。Seal, the use of mechanical seals, sealing performance and reliable。
Keywords:Vacuum unit; mechanical pump; Roots pump; molecular pump;
rough vacuum; high vacuum
III
目 錄
1 緒論 1
1.1 非晶合金發(fā)展概述 1
1.2 Zr基非晶合金的性能 2
1.2.1 力學(xué)性能 2
1.2.2 耐腐蝕性能 4
1.2.3 加工性能 4
1.3 真空獲得設(shè)備發(fā)展概述 4
1.3.1 真空技術(shù)發(fā)展簡介 4
1.3.2 綜合評價 5
2 鋯基非晶合金真空熔煉壓力熔滲爐真空系統(tǒng)設(shè)計 6
2.1 工作原理及主要技術(shù)性能指標(biāo) 6
2.2 真空獲得系統(tǒng) 7
2.2.1 真空機(jī)組選用原則 7
2.2.2 真空泵工作壓力范圍 8
2.2.3 旋片泵工作原理及其型號確定 10
2.2.4 羅茨泵工作原理及其型號確定 15
2.2.5 羅茨泵真空機(jī)組抽氣速率 22
2.2.6 分子泵工作原理及其型號確定 23
3 熔煉室殼體計算 28
4 熔滲爐的殼體設(shè)計與壁厚計算 29
4.1 殼體壁厚計算 29
4.2 筒體上部大法蘭的設(shè)計計算 33
5 真空室抽氣時間計算 33
5.1 氣體沿管道流動狀態(tài)及流導(dǎo)計算 33
5.2 抽氣時間計算 38
5.2.1 粗真空、低真空下抽氣時間 38
5.2.2 高真空下抽氣時間計算 40
6 結(jié)論 42
7 致謝 43
8 參考文獻(xiàn) 44