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高科技產(chǎn)業(yè)與專(zhuān)利從專(zhuān)利指標(biāo)觀察產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新變化

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《高科技產(chǎn)業(yè)與專(zhuān)利從專(zhuān)利指標(biāo)觀察產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新變化》由會(huì)員分享,可在線閱讀,更多相關(guān)《高科技產(chǎn)業(yè)與專(zhuān)利從專(zhuān)利指標(biāo)觀察產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新變化(56頁(yè)珍藏版)》請(qǐng)?jiān)谘b配圖網(wǎng)上搜索。

1、高科技產(chǎn)業(yè)與專(zhuān)利 從專(zhuān)利指標(biāo)觀察產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新變化 報(bào)告人:吳榮義 院長(zhǎng) 中華民國(guó)九十三年八月三十日 大專(zhuān)院校經(jīng)濟(jì)學(xué)教師研習(xí)營(yíng) 財(cái)政問(wèn)題與國(guó)家經(jīng)濟(jì)建設(shè) 1 大 綱 前言: 高科技產(chǎn)業(yè)的創(chuàng)新、發(fā)明與專(zhuān)利 專(zhuān)利指標(biāo)與資料庫(kù)之基本介紹 技術(shù)創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 新技術(shù)探索與 IP加值規(guī)劃之應(yīng)用 結(jié)語(yǔ) 2 高科技產(chǎn)業(yè)的背後 . 臺(tái)灣雖為光碟機(jī)生產(chǎn)王國(guó),但不論 CD-ROM、 DVD-ROM、 CD- RW等產(chǎn)品,生產(chǎn)廠商出貨時(shí)均須繳交一定比例或金額的權(quán)利金 予規(guī)格制定的廠商,其中 DVD-ROM生產(chǎn)廠商, 每臺(tái)要繳 10美 元權(quán)利金給 10C聯(lián)盟 ,約佔(zhàn)業(yè)者出貨價(jià)格的 2025%,造成廠商 沈重的負(fù)擔(dān)。

2、臺(tái)灣股王聯(lián)發(fā)科,在 2003年因侵權(quán)事件賠償 ESS約 9000萬(wàn)美金 (臺(tái)幣約 30億元 ) , 2004又遭 Zoran 與 Oak專(zhuān)利侵權(quán)告訴。 聯(lián)電在美國(guó)控告矽統(tǒng)侵害技術(shù)製程,最後卻演變成聯(lián)電以百億 元的金額併購(gòu)矽統(tǒng), 以戰(zhàn)逼和 的手法,顯示國(guó)內(nèi)企業(yè)開(kāi)始 靈活運(yùn)用法律,掌握制敵先機(jī)。 以面板大廠友達(dá)為例, 2003年支付給富士通( FDTC)的權(quán)利金 與研發(fā)費(fèi)用達(dá) 2.44億元 ,取得廣視角技術(shù),但依舊必須面臨夏 普在後續(xù)一連串專(zhuān)利侵權(quán)控訴。 (日本夏普自 1967年即已投入液晶面板的技術(shù),專(zhuān)利布局長(zhǎng)達(dá)三、四十年,專(zhuān)利分布既深 且廣,臺(tái)灣從 97、 98年才開(kāi)始發(fā)展液晶產(chǎn)業(yè),勢(shì)必面臨來(lái)

3、自日本廠商的專(zhuān)利侵權(quán)大戰(zhàn)。 ) 當(dāng)專(zhuān)利侵權(quán)訴訟不斷在高科技產(chǎn)業(yè)蔓延 一、前言 -whats happen ? 3 知識(shí)經(jīng)濟(jì)與智財(cái)權(quán) 在 知識(shí)經(jīng)濟(jì)中,知識(shí)密集產(chǎn)業(yè)已凌駕勞力密集產(chǎn)業(yè),知識(shí)經(jīng) 濟(jì)強(qiáng)調(diào)研發(fā)與創(chuàng)新,而 任何發(fā)明成果可透過(guò)產(chǎn)權(quán)化( 亦即專(zhuān) 利、商標(biāo)、積體電路佈局、著作權(quán)及營(yíng)業(yè)秘密等) ,由國(guó)家 合法授予專(zhuān)有製造、販賣(mài)與使用的獨(dú)佔(zhàn)權(quán)利,獲得壟斷發(fā)明 的利益。 知識(shí)經(jīng)濟(jì)的實(shí)踐,就是各種國(guó)際化智慧財(cái)產(chǎn)權(quán)的研發(fā)、創(chuàng)新 與權(quán)利保護(hù)本身。特別是以研發(fā)密集度較高的高科技企業(yè)更 應(yīng)致力於科技研發(fā)、發(fā)展專(zhuān)利技術(shù),並做好專(zhuān)利保護(hù),才能 致勝,享有主宰未來(lái)的優(yōu)勢(shì)。 專(zhuān)利是為發(fā)明之火添加利益之火林肯 一、前言

4、-why ? 4 一、前言 -What is IPRs scope ? 智財(cái)權(quán)的範(fàn)圍 智財(cái)權(quán) 營(yíng)業(yè) 秘密 專(zhuān)利權(quán) 著作權(quán) 商標(biāo)權(quán) 積體電路佈局 發(fā)明 新型 新式樣 文字 圖形 記號(hào) 顏色組合 聲音 立體商標(biāo) 地理標(biāo)示 網(wǎng)域名稱(chēng) 音樂(lè) 建築 戲劇舞蹈 圖形 美術(shù) 語(yǔ)文 表演 電腦程式 攝影 試聽(tīng) 設(shè)計(jì) 方法 程式 配方 技術(shù) 製程 5 誰(shuí)在乎專(zhuān)利 ? 一、前言 -who care ? 高科技企業(yè)致力專(zhuān)利的申請(qǐng)與獲得活動(dòng),藉以累積競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì) 企業(yè) 核準(zhǔn)件數(shù) 企業(yè) 核準(zhǔn)件數(shù) 企業(yè) 核準(zhǔn)件數(shù) 1 I B M 3 ,4 1 5 1 I B M 3 ,2 8 8 1 I B M 3 ,4 1 1 2 C a

5、n n o n 1 ,9 9 2 2 C an n o n 1 ,8 9 3 2 NE C 1 ,9 5 3 3 Hitach i 1 ,8 9 3 3 M icr o n 1 ,8 3 3 3 C a n n o n 1 ,8 7 7 4 M ats u s h ita E lectr ic 1 ,7 8 6 4 NE C 1 ,8 2 1 4 M icr o n 1 ,6 4 3 5 HP 1 ,7 5 9 5 Hitach i 1 ,6 0 2 5 Sam s u n g E lectr o n ics 1 ,4 5 0 6 M icr o n 1 ,7 0 7 6 M ats u s

6、h ita E lectr ic 1 ,5 4 4 6 M ats u s h ita E lectr ic 1 ,4 4 0 7 I n tel 1 ,5 9 2 7 So n y Cor p o r atio n 1 ,4 3 4 7 So n y Cor p o r atio n 1 ,3 6 3 8 P h ilip s E lectr o n ics 1 ,3 5 3 8 Gen er al E lectr ic 1 ,4 1 6 8 Hitach i 1 ,2 7 1 9 Sam s u n g E lectr o n ics 1 ,3 1 3 9 HP 1 ,3 8 5 9 M

7、its u b is h i De n k i 1 ,1 8 4 10 So n y Cor p o r atio n 1 ,3 1 1 10 M its u b is h i De n k i 1 ,3 7 3 10 Fu j its u 1 ,1 6 6 註:紅色網(wǎng)底者表比前一年排名上升,藍(lán)色網(wǎng)底者比前一年排名下降,白色網(wǎng)底者表名次與前一年相同。 NE C 2 0 0 3 年發(fā)明型專(zhuān)利獲得數(shù)為 1181 件,被擠出前十名,名列全球 15 名。 資料來(lái)源: USP T O 新聞稿( J an u ar y 1 2 , 2 0 0 4 ) 2003 年 2002 年 2001 年 2001-

8、2003 年 USP T O 發(fā)明型專(zhuān)利核準(zhǔn)數(shù)前十大企業(yè)排行榜 6 知識(shí)經(jīng)濟(jì)之企業(yè)創(chuàng)新到創(chuàng)業(yè)活動(dòng) -專(zhuān)利的角色 資訊 /需求 掌握 市場(chǎng) (國(guó)內(nèi)外 ) 技術(shù) (國(guó)內(nèi)外 ) 專(zhuān)利 (國(guó)內(nèi)外 ) 加值規(guī)劃 專(zhuān)利布局 專(zhuān)利包裝 專(zhuān)利推廣 專(zhuān)利保護(hù) 專(zhuān)利組合 技術(shù)產(chǎn) 業(yè)化 技術(shù)鑑價(jià) 授權(quán)談判 技術(shù)團(tuán)隊(duì) 新事業(yè)育成 技術(shù)的新創(chuàng) 事業(yè)化 營(yíng)運(yùn)計(jì)畫(huà)書(shū) 產(chǎn)品組合 經(jīng)營(yíng)團(tuán)隊(duì) 資金募集 後續(xù)作業(yè) 技術(shù)取得 國(guó)內(nèi) 全球 技術(shù) /市場(chǎng)可 行性評(píng)估 評(píng)估市場(chǎng)潛力 技術(shù)可行性 申請(qǐng)專(zhuān)利之效益 技術(shù)需求 技術(shù)評(píng)估 技術(shù)包裝、組合 專(zhuān)利鑑價(jià)、推廣、 保護(hù) 專(zhuān)利佈局 技術(shù)來(lái)源 研究機(jī)構(gòu) 學(xué)校 業(yè)界 國(guó)外 Input Proce

9、ss 技術(shù)授權(quán) 成立新事業(yè) 企業(yè)諮詢服務(wù) 技術(shù)再應(yīng)用 Output 外部取得 新需求 技術(shù)育成 技術(shù)行銷(xiāo)與談判 自行研發(fā) Generation+Diffusion Knowledge Commercialization Start-up 一、專(zhuān)利的重要性 -How to use the patent as a weapon ? 資料來(lái)源:根據(jù)王本耀 (2004), 工研院對(duì)智財(cái)加值之演進(jìn)與做法 ”報(bào)告,作部分修正。 -專(zhuān)利指標(biāo)優(yōu)點(diǎn)與用途 -專(zhuān)利指標(biāo)的限制 -專(zhuān)利相關(guān)的研究 -專(zhuān)利資料庫(kù)的介紹 -專(zhuān)利指標(biāo)的介紹與應(yīng)用 二、專(zhuān)利指標(biāo)與資料庫(kù)之基本介紹 專(zhuān)利指標(biāo)與資料庫(kù)之基本介紹 8 專(zhuān)利指標(biāo)的優(yōu)點(diǎn)

10、與用途 專(zhuān)利指標(biāo)的優(yōu)點(diǎn) : 長(zhǎng)期、有系統(tǒng)、豐富的、客 觀的技術(shù)資訊 專(zhuān)利分析的用途 : Competitive Intelligence (國(guó)家創(chuàng)新系統(tǒng)的創(chuàng)新能力或企業(yè)智慧資本衡量) M&A Targeting and Due Diligence (購(gòu)併與專(zhuān)利查核) Investment Targeting(投資目標(biāo)) Science and Technology Policy(科技政策檢視) 二、專(zhuān)利指標(biāo)與資料庫(kù)之基本介紹 9 專(zhuān)利分析的限制 : 專(zhuān)利申請(qǐng)傾向 (Patent Propensity):製藥 vs. 銀行 資料截?cái)嗥?(Truncation Bias): 被引用數(shù) 1990

11、vs.2002 地域效應(yīng) (Geographic localization effect):本國(guó)申請(qǐng)與引用 領(lǐng)域效應(yīng) (Technological field effects): ICT vs. 機(jī)械 專(zhuān)利價(jià)值 : 1.同一專(zhuān)利在 不同時(shí)間點(diǎn) 的價(jià)值不同:如遞延性、替代性技術(shù) 出現(xiàn)、審查制度鬆緊差異。 2.單一專(zhuān)利與專(zhuān)利組合的 價(jià)值 :單一專(zhuān)利通常需要搭配其他專(zhuān)利 才可以生產(chǎn)最終產(chǎn)品,單一專(zhuān)利的價(jià)值自然較低,換言之一 群搭配的專(zhuān)利價(jià)值高於個(gè)別專(zhuān)利加總。 人為因素 :專(zhuān)利的時(shí)間序列資料呈現(xiàn)究竟是真實(shí)現(xiàn)象 與人為現(xiàn)象,如 1979年各國(guó)在美國(guó)專(zhuān)利核準(zhǔn)數(shù)下降是因 審查速度過(guò)慢所致。 專(zhuān)利指標(biāo)的限制

12、二、專(zhuān)利指標(biāo)與資料庫(kù)之基本介紹 10 專(zhuān)利分析的限制: -專(zhuān)利分析需要綿密之蒐索及逐案分析,耗時(shí)及耗經(jīng)費(fèi) -專(zhuān)利分析需要特定資料庫(kù)及專(zhuān)業(yè)分析軟體工具,因此需 要專(zhuān)業(yè)人員運(yùn)作及協(xié)助 專(zhuān)利指標(biāo)的限制 二、專(zhuān)利指標(biāo)與資料庫(kù)之基本介紹 11 專(zhuān)利指標(biāo)研究與發(fā)展 專(zhuān)利指標(biāo)研究 Scherer (1995) 與 Schmookler (1966) 利用專(zhuān)利進(jìn)行創(chuàng)新報(bào)酬 之研究 CHI ( 1980)建構(gòu)專(zhuān)利引用指標(biāo)分析資料庫(kù) Griliches (1984) 進(jìn)行 R&D, 專(zhuān)利與生產(chǎn)力相關(guān)研究 IBM公司的 Reisner(1963)是最早應(yīng)用此一專(zhuān)利引用分析的先 驅(qū),其利用專(zhuān)利引用資料,找出關(guān)鍵專(zhuān)利技

13、術(shù)。 美國(guó)國(guó)家科學(xué)基金會(huì)( National Science Foundation)重要出 版品 Science Engineering Indicators利用專(zhuān)利指標(biāo)評(píng)比 各國(guó)之技術(shù)績(jī)效。 Jaffe, Trajtenberg, Brown Hall, Henderson ( 1998-2004) 利用 專(zhuān)利引用次數(shù)來(lái)觀察知識(shí)流動(dòng)(跨國(guó)、跨創(chuàng)新系統(tǒng)成員、跨 領(lǐng)域) 二、專(zhuān)利指標(biāo)與資料庫(kù)之基本介紹 12 時(shí)間: 1976 專(zhuān)利申請(qǐng)、核準(zhǔn)序號(hào)與日期 發(fā)明人資料 申請(qǐng)人資料 專(zhuān)利分類(lèi)資料 (美國(guó)採(cǎi)美國(guó)專(zhuān)利分類(lèi) USPC,不同於其他國(guó)家採(cǎi)國(guó)際 專(zhuān)利分類(lèi) IPC) 專(zhuān)利引證資料 專(zhuān)利摘要文字 專(zhuān)利範(fàn)

14、圍 專(zhuān)利資料庫(kù)的介紹 專(zhuān)利電子資料 : USPTO、 JPO、 EPO、中國(guó)專(zhuān)利資料庫(kù)、 臺(tái)灣專(zhuān)利資料庫(kù) (網(wǎng)上免費(fèi)查詢首頁(yè)資料) 專(zhuān)利首頁(yè)內(nèi)容 (以 USPTO為例): 二、專(zhuān)利指標(biāo)與資料庫(kù)之基本介紹 13 專(zhuān)利引用解說(shuō) Backward Citations (References) Forward Citations 9 U.S. Patents 5 Foreign Patents IBM Patent No. 5, 278,955 Issued 1994 6 U.S. Patents 6 Other References, Including 3 Science References T

15、ime 1985-92 1994 1995-98 A Starting Patent references prior art, and is cited by later patents 二、專(zhuān)利指標(biāo)與資料庫(kù)之基本介紹 14 專(zhuān)利指標(biāo)的介紹 一、專(zhuān)利指標(biāo) 專(zhuān)利核準(zhǔn)件數(shù) ( Patent Number, PN) 專(zhuān)利申請(qǐng)的成功率 ( Success Rate of Patent Application, SRPA) 專(zhuān)利引用數(shù) ( Patent Citation Number, PCN) 現(xiàn)行衝擊指數(shù) ( Current Impact Index, CII) 技術(shù)強(qiáng)度 ( Technology

16、 Strength, TS) 技術(shù)顯示比較利益 ( Revealed Technological advantage, RTA) 又稱(chēng)活動(dòng)性指數(shù) ( Activity Index, AI) 非專(zhuān)利之參考資料 (Non-patent Reference Score, NPRS) 科學(xué)關(guān)連 ( Science Linkage, SL) 技術(shù)生命週期 ( Technology Cycle Time, TCT) 二、專(zhuān)利指標(biāo)與資料庫(kù)之基本介紹 15 專(zhuān)利指標(biāo) (Patent Indicators) 國(guó)家層面 產(chǎn)業(yè)層面 廠商層面 關(guān)鍵技術(shù) (Critical Technologies) 科學(xué)與技術(shù)關(guān)聯(lián)程

17、度 (Science & Technology inkage) 國(guó)家技術(shù)專(zhuān)利強(qiáng)度 技術(shù)自主性分析 競(jìng)爭(zhēng)國(guó)之分析 技術(shù)創(chuàng)新對(duì)經(jīng)濟(jì)成長(zhǎng)之貢獻(xiàn) 技術(shù)或知識(shí)外溢效果 產(chǎn)學(xué)研知識(shí)流動(dòng) 研發(fā)國(guó)際化 關(guān)鍵技術(shù) (Critical Technologies) 科學(xué)與技術(shù)關(guān)聯(lián)程度 (Science & Technology Linkage) 技術(shù)專(zhuān)利強(qiáng)度 技術(shù)自主性分析 研發(fā)生產(chǎn)力之衡量 關(guān)鍵技術(shù)領(lǐng)域之領(lǐng)導(dǎo)廠商 專(zhuān)利技術(shù)發(fā)展軌跡與新趨勢(shì) 專(zhuān)利強(qiáng)度 競(jìng)爭(zhēng)者分析 交互授權(quán)分析 領(lǐng)導(dǎo)廠商之技術(shù)發(fā)展軌跡 專(zhuān)利價(jià)值分析 企業(yè)技術(shù)佈局策略分析 專(zhuān)利指標(biāo)應(yīng)用層面 二、專(zhuān)利指標(biāo)與資料庫(kù)之基本介紹 -問(wèn)題界定 -衡量架構(gòu)與方法

18、-結(jié)果分析 技術(shù)創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 17 制訂技術(shù)創(chuàng)新政策前的難題 未來(lái)走向 創(chuàng)新系統(tǒng) 目前的技術(shù)創(chuàng)新能耐 及技術(shù)創(chuàng)新策略 政府政策檢討 政策介入空間? 可能的政策作法? 如何衡量創(chuàng)新能耐? 如何觀察創(chuàng)新策略? 如何觀察未來(lái)走向? 問(wèn)題界定 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 18 創(chuàng)新政策檢視與政策工具規(guī)劃的準(zhǔn)備 如何衡量技術(shù)創(chuàng)新能耐? 國(guó)家整體的技術(shù)創(chuàng)新能耐(量與質(zhì))? 各產(chǎn)業(yè)技術(shù)類(lèi)別中的技術(shù)創(chuàng)新能耐(量與質(zhì))? 國(guó)家創(chuàng)新系統(tǒng)中的成員的技術(shù)創(chuàng)新能耐(量與質(zhì))? 如何觀察技術(shù)創(chuàng)新策略? 創(chuàng)新系統(tǒng)中(產(chǎn)學(xué)研)各角色的技術(shù)創(chuàng)新策略為何? (深化?延伸?著重製程?多角化?) 創(chuàng)新系統(tǒng)中各角色的創(chuàng)新策略如何互動(dòng)

19、? 與其他國(guó)家間的互動(dòng)關(guān)係為何? 企業(yè)研發(fā)國(guó)際化趨勢(shì)? 如何觀察未來(lái)走向? 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 問(wèn)題界定 19 國(guó)家技術(shù)創(chuàng)新競(jìng)爭(zhēng)力之衡量指標(biāo) 國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力 內(nèi)部 研發(fā)投入 投入面 NIS主角 產(chǎn)業(yè)部門(mén) 技術(shù)貿(mào)易 附加價(jià)值 高科技產(chǎn)品 出口 專(zhuān)利 論文 版權(quán) 商標(biāo) . 過(guò)程面 研發(fā)基礎(chǔ)建設(shè) 創(chuàng)新環(huán)境 創(chuàng)新政策 產(chǎn)出面 產(chǎn)業(yè)科技創(chuàng)新競(jìng)爭(zhēng)力 NIS互動(dòng) 創(chuàng)新產(chǎn)權(quán)化 委外或 產(chǎn)權(quán)購(gòu)買(mǎi) 非研發(fā)型 態(tài)的投入 經(jīng)濟(jì) /產(chǎn)業(yè)成長(zhǎng) 商品化 產(chǎn)品雛形 新服務(wù) 新運(yùn)籌 新經(jīng)營(yíng)模 式 . 創(chuàng)新產(chǎn) 品銷(xiāo)售 新創(chuàng)企業(yè) 科技人力 資源 VC Support 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -衡量指標(biāo)系統(tǒng) 20 研發(fā)創(chuàng)新系統(tǒng)評(píng)估之

20、觀念架構(gòu) 架構(gòu)條件 Framework Conditions 投資與支持 Investment & Support 創(chuàng)新系統(tǒng)能量 Capability of NIS 工商倫理 行政法制 教育文化 國(guó)際視野 社會(huì)安全 永續(xù)發(fā)展 資金 Support 政府支持 Investment 企業(yè)投資 資 訊 通 訊 科 技 Linkage 科學(xué) 創(chuàng)新 科學(xué)產(chǎn)出 創(chuàng)新產(chǎn)出 新產(chǎn)品 新事業(yè) 商業(yè)化 知識(shí)產(chǎn)業(yè)化 科學(xué) 創(chuàng)意 企業(yè) 海外資源 大 學(xué) 研 究 機(jī) 構(gòu) 系統(tǒng)績(jī)效 Performance of NIS 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -NIS理論架構(gòu) 21 方法一:調(diào)查與統(tǒng)計(jì) 根據(jù)熊彼得的分類(lèi),創(chuàng)新可分成: 新

21、產(chǎn)品的引進(jìn);新生產(chǎn)方法的採(cǎi)用;新市場(chǎng)的開(kāi)拓;新 原料的取得及新組織的推行 歐盟進(jìn)行創(chuàng)新調(diào)查所參考的 Oslo Manual(OECD, 1997) : 創(chuàng)新的種類(lèi):技術(shù)的產(chǎn)品及製程創(chuàng)新、組織創(chuàng)新 創(chuàng)新的標(biāo)的:產(chǎn)品、製程、配送 創(chuàng)新的程度:全新技術(shù)及漸進(jìn)創(chuàng)新 創(chuàng)新的水準(zhǔn):領(lǐng)先全球的創(chuàng)新、領(lǐng)先特定區(qū)域(國(guó)家) 的創(chuàng)新以及領(lǐng)先企業(yè)內(nèi)部的創(chuàng)新 各國(guó)根據(jù) OECD Frascati Manual所做的研究發(fā)展活動(dòng)調(diào)查 與統(tǒng)計(jì) 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -衡量方法 問(wèn)題界定 22 方法二:從專(zhuān)利來(lái)衡量 國(guó)家整體的技術(shù)創(chuàng)新能量 資料來(lái)源:林秀英 (2004) 1990 2002 2003 1990 2002

22、2003 2003 90- 03 CA GR 1 美國(guó) 52 ,977 97 ,127 98 ,598 53 .3 9 52 .6 6 52 .7 1 1. 51 4. 89 2 日本 20 ,743 36 ,340 37 ,250 20 .9 1 19 .7 0 19 .9 1 2. 50 4. 61 3 德國(guó) 7,86 2 11 ,957 12 ,140 7. 92 6. 48 6. 49 1. 53 3. 40 4 臺(tái)灣 861 6,73 0 6,67 6 0. 87 3. 65 3. 57 -0 .8 0 17 .0 6 5 南韓 290 4,00 9 4,13 2 0. 29 2.

23、17 2. 21 3. 07 22 .6 7 1 美國(guó) 47 ,391 86 ,972 87 ,901 52 .4 4 51 .9 8 52 .0 0 1. 07 4. 87 2 日本 19 ,525 34 ,859 35 ,517 21 .6 1 20 .8 3 21 .0 1 1. 89 4. 71 3 德國(guó) 7,61 4 11 ,280 11 ,444 8. 43 6. 74 6. 77 1. 45 3. 18 4 臺(tái)灣 732 5,43 1 5,29 8 0. 81 3. 25 3. 13 -2 .4 5 16 .4 5 5 南韓 225 3,78 6 3,94 4 0. 25 2.

24、26 2. 33 4. 17 24 .6 4 1 美國(guó) 5,06 9 9,32 5 10 ,045 63 .1 7 60 .3 5 60 .6 0 7. 72 5. 40 2 日本 1,13 7 1,36 4 1,56 7 14 .1 7 8. 83 9. 45 14 .8 8 2. 50 3 臺(tái)灣 129 1,29 4 1,37 0 1. 61 8. 37 8. 26 5. 87 19 .9 3 4 德國(guó) 182 509 509 2. 27 3. 29 3. 07 0. 00 8. 23 5 加拿大 212 410 446 2. 64 2. 65 2. 69 8. 78 5. 89 10 南

25、韓 65 211 186 0. 81 1. 37 1. 12 -1 1. 85 8. 42 註: 1. 專(zhuān)利所屬國(guó)別係以 USP TO 定義以第一個(gè)發(fā)明人之國(guó)別 為 認(rèn)定標(biāo)準(zhǔn)。 2.CAGR 為 複合平均年成長(zhǎng)率。 資料來(lái)源 : USP TO , 臺(tái)灣經(jīng)濟(jì) 研 究院整理。 設(shè)計(jì)型專(zhuān)利 件數(shù) 佔(zhàn)有率 發(fā)明型專(zhuān)利 國(guó)家 單位:件、 成長(zhǎng)率 附表六、 2003 年美國(guó)專(zhuān)利核準(zhǔn)件數(shù)之國(guó)家排名 所有專(zhuān)利 2003 排名 專(zhuān)利件數(shù)排名 所有專(zhuān)利 Rank(4) (持續(xù)第五年) 發(fā)明型專(zhuān)利 Rank(4) (持續(xù)第四年) 設(shè)計(jì)專(zhuān)利 Rank (3) ( 1992) 專(zhuān)利件數(shù)成長(zhǎng)率 1990-2003年間在美

26、國(guó)獲 得專(zhuān)利數(shù)( TOP10大)平 均年成長(zhǎng)率以臺(tái)灣與南韓 最高。 2003年整體 USPTO專(zhuān)利 件數(shù)仍呈現(xiàn)停滯性成長(zhǎng)走 勢(shì),成長(zhǎng)率僅 1.42,臺(tái) 灣小幅減少。 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -衡量方法 -國(guó)家技術(shù)創(chuàng)新能量 23 專(zhuān)利生產(chǎn)力 -每百萬(wàn)人在美國(guó)獲得所有專(zhuān)利數(shù) 國(guó)家 件 / 人年 國(guó)家 件 / 人年 國(guó)家 件 / 人年 國(guó)家 件 / 人年 國(guó)家 件 / 人年 美國(guó) 298 美國(guó) 298 美國(guó) 304 美國(guó) 299 美國(guó) 302 日本 245 日本 246 日本 261 日本 274 日本 279 瑞士 178 臺(tái)灣 210 臺(tái)灣 240 臺(tái)灣 242 臺(tái)灣 236 臺(tái)灣 168 瑞士

27、 184 瑞士 198 瑞典 197 以色列 189 瑞典 158 瑞典 178 瑞典 197 瑞士 190 瑞士 183 以色列 126 以色列 130 以色列 157 以色列 164 瑞典 171 芬蘭 126 德國(guó) 124 芬蘭 141 芬蘭 155 芬蘭 166 德國(guó) 114 芬蘭 119 德國(guó) 137 德國(guó) 137 德國(guó) 139 加拿大 106 加拿大 111 加拿大 116 加拿大 110 加拿大 110 丹麥 92 丹麥 82 丹麥 90 新加坡 98 新加坡 102 荷蘭 79 荷蘭 78 荷蘭 83 比利時(shí) 87 丹麥 99 南韓 77 南韓 71 南韓 75 荷蘭 86 南

28、韓 83 法國(guó) 65 比利時(shí) 68 奧地利 73 南韓 80 荷蘭 83 比利時(shí) 63 法國(guó) 64 新加坡 72 丹麥 80 比利時(shí) 75 英國(guó) 61 英國(guó) 62 比利時(shí) 70 法國(guó) 67 奧地利 73 奧地利 59 奧地利 62 法國(guó) 68 奧地利 65 法國(guó) 65 挪威 50 挪威 55 英國(guó) 67 英國(guó) 65 英國(guó) 61 澳洲 37 新加坡 54 挪威 59 挪威 54 挪威 58 新加坡 37 澳洲 37 澳洲 45 澳洲 44 澳洲 46 紐西蘭 30 愛(ài)爾蘭 32 愛(ài)爾蘭 37 紐西蘭 36 愛(ài)爾蘭 41 註:因 2003 年之年中人口 尚 未公布,故以 2002 數(shù) 值 代替。

29、資料來(lái)源: 1 . U S P TO 每週之專(zhuān)利公開(kāi)說(shuō)明書(shū),臺(tái)灣經(jīng)濟(jì) 研 究院計(jì)算。 2 . 主要國(guó)家資料年中人口的 主計(jì)處網(wǎng)站。 3 .IM F , I FS 。 表 、各國(guó)近五年在美國(guó)每百萬(wàn)人口之發(fā)明型專(zhuān)利件數(shù) 1999 2000 2001 2002 2003 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 國(guó)家技術(shù)產(chǎn)出的相對(duì)水準(zhǔn) 24 技術(shù)創(chuàng)新知識(shí)流動(dòng) -累 積被引用的排名 註: 1. 被引證次數(shù)係指被當(dāng)年與以後各年專(zhuān)利(累計(jì)至 2003 年)引為前導(dǎo)技術(shù)的次數(shù)。 2 . 專(zhuān)利所屬國(guó)別係以 U S P T O 定義以第一個(gè)發(fā)明人之國(guó)別為認(rèn)定標(biāo)準(zhǔn)。 資料來(lái)源 : U S P T O 專(zhuān)利磁帶資料 , 臺(tái)灣經(jīng)濟(jì)研究

30、院計(jì)算 . 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -國(guó)家技術(shù)創(chuàng)新擴(kuò)散貢獻(xiàn) 名 次 國(guó)家 被引證次 數(shù) 百分比 自我引 用比重 名 次 國(guó)家 被引證 次數(shù) 百分比 自我引 用比重 名次 國(guó)家 被引證 次數(shù) 百分比 自我引 用比重 名次 國(guó)家 被引證 次數(shù) 百分比 自我引 用比重 - 總計(jì) 5 7 9 , 1 3 2 1 0 0 . 0 0 - 總計(jì) 3 9 9 , 6 6 0 1 0 0 . 0 0 - 總計(jì) 2 3 8 , 5 2 0 1 0 0 . 0 0 - 總計(jì) 8 3 , 1 4 4 1 0 0 . 0 0 1 美國(guó) 3 6 8 , 5 0 1 6 3 . 6 3 7 8 . 0 2 1 美國(guó) 2

31、4 8 , 3 6 7 6 2 . 1 4 7 6 . 6 4 1 美國(guó) 1 4 3 , 5 2 3 6 0 . 1 7 7 5 . 8 4 1 美國(guó) 4 7 , 9 9 2 5 7 . 7 2 7 5 . 1 3 2 日本 1 0 4 , 6 9 5 1 8 . 0 8 4 9 . 1 5 2 日本 7 3 , 8 2 0 1 8 . 4 7 5 0 . 9 8 2 日本 4 5 , 3 9 3 1 9 . 0 3 5 4 . 7 0 2 日本 1 7 , 4 3 8 2 0 . 9 7 5 7 . 4 6 3 德國(guó) 2 1 , 0 1 8 3 . 6 3 2 7 . 2 1 3 德國(guó) 1

32、6 , 0 4 9 4 . 0 2 2 9 . 1 7 3 德國(guó) 9 , 9 6 7 4 . 1 8 3 1 . 1 4 3 德國(guó) 3 , 5 3 8 4 . 2 6 3 5 . 9 2 4 臺(tái)灣 1 4 , 9 0 8 2 . 5 7 3 2 . 5 1 4 臺(tái)灣 1 2 , 5 7 8 3 . 1 5 3 3 . 9 2 4 臺(tái)灣 8 , 5 3 6 3 . 5 8 3 6 . 6 2 4 臺(tái)灣 3 , 2 1 3 3 . 8 6 4 5 . 5 6 5 加拿大 1 1 , 3 0 0 1 . 9 5 1 3 . 9 4 5 加拿大 7 , 7 8 3 1 . 9 5 1 5 . 9 6

33、5 南韓 4 , 8 9 0 2 . 0 5 2 5 . 4 0 5 南韓 1 , 8 2 0 2 . 1 9 3 0 . 5 5 6 南韓 1 0 , 5 7 6 1 . 8 3 1 9 . 9 0 6 南韓 7 , 2 1 0 1 . 8 0 2 0 . 6 2 6 加拿大 4 , 6 3 4 1 . 9 4 1 6 . 7 0 6 加拿大 1 , 5 6 7 1 . 8 8 1 8 . 7 0 7 英國(guó) 1 0 , 0 4 6 1 . 7 3 1 2 . 1 6 7 英國(guó) 6 , 9 2 1 1 . 7 3 1 4 . 0 6 7 英國(guó) 4 , 2 2 1 1 . 7 7 1 5 . 9

34、 9 7 英國(guó) 1 , 4 2 3 1 . 7 1 1 6 . 7 3 8 法國(guó) 8 , 8 7 0 1 . 5 3 1 9 . 3 2 8 法國(guó) 6 , 0 3 5 1 . 5 1 2 0 . 3 1 8 法國(guó) 3 , 4 7 3 1 . 4 6 2 1 . 2 2 8 法國(guó) 1 , 2 2 5 1 . 4 7 2 5 . 4 7 9 瑞典 3 , 9 2 9 0 . 6 8 1 4 . 4 6 9 瑞電 3 , 1 4 6 0 . 7 9 1 3 . 8 0 9 瑞典 1 , 8 5 5 0 . 7 8 1 7 . 3 6 9 瑞典 712 0 . 8 6 2 1 . 7 7 10 荷蘭

35、3 , 0 4 3 0 . 5 3 1 1 . 7 0 10 義大利 2 , 4 0 6 0 . 6 0 1 6 . 5 8 10 以色列 1 , 5 6 0 0 . 6 5 1 4 . 8 1 10 以色列 536 0 . 6 4 1 8 . 4 7 11 義大利 3 , 0 1 4 0 . 5 2 1 5 . 3 6 11 以色列 2 , 0 7 0 0 . 5 2 1 4 . 0 1 11 義大利 1 , 4 0 1 0 . 5 9 1 7 . 9 9 11 義大利 512 0 . 6 2 1 9 . 7 3 12 以色列 2 , 9 3 4 0 . 5 1 1 0 . 7 7 12 荷

36、蘭 1 , 9 0 1 0 . 4 8 1 4 . 8 3 12 荷蘭 1 , 2 8 4 0 . 5 4 1 8 . 3 0 12 荷蘭 436 0 . 5 2 2 4 . 0 8 13 瑞士 2 , 6 7 7 0 . 4 6 1 6 . 8 8 13 瑞士 1 , 7 6 3 0 . 4 4 1 4 . 8 0 13 瑞士 1 , 0 5 1 0 . 4 4 1 6 . 8 4 13 瑞士 375 0 . 4 5 2 4 . 8 0 14 芬蘭 2 , 2 8 6 0 . 3 9 1 5 . 7 0 14 芬蘭 1 , 4 7 0 0 . 3 7 1 6 . 4 6 14 澳洲 979

37、0 . 4 1 2 3 . 7 0 14 新加坡 352 0 . 4 2 2 3 . 3 0 15 澳洲 1 , 9 1 5 0 . 3 3 8 . 5 6 15 澳洲 1 , 3 9 5 0 . 3 5 1 5 . 5 6 15 芬蘭 921 0 . 3 9 1 7 . 2 6 15 芬蘭 337 0 . 4 1 1 7 . 5 1 16 比利時(shí) 1 , 6 3 5 0 . 2 8 1 4 . 9 2 16 比利時(shí) 1 , 1 5 6 0 . 2 9 1 7 . 3 9 16 新加坡 660 0 . 2 8 1 2 . 8 8 16 澳洲 312 0 . 3 8 2 5 . 9 6 17 丹

38、麥 1 , 1 0 6 0 . 1 9 1 1 . 8 4 17 新加坡 837 0 . 2 1 1 1 . 9 5 17 比利時(shí) 611 0 . 2 6 0 . 3 3 17 比利時(shí) 237 0 . 2 9 3 1 . 6 5 18 新加坡 942 0 . 1 6 6 . 3 7 18 丹麥 634 0 . 1 6 1 2 . 4 6 18 奧地利 416 0 . 1 7 1 5 . 3 8 18 中國(guó) 150 0 . 1 8 2 8 . 0 0 19 奧地利 909 0 . 1 6 1 6 . 7 2 19 奧地利 578 0 . 1 4 1 8 . 8 6 19 丹麥 354 0 . 1

39、 5 2 5 . 7 1 19 香港 133 0 . 1 6 2 4 . 8 1 20 香港 586 0 . 1 0 1 0 . 9 2 20 香港 461 0 . 1 2 1 4 . 5 3 20 香港 353 0 . 1 5 1 5 . 5 8 20 奧地利 117 0 . 1 4 2 7 . 3 5 20021999 2000 2001 25 國(guó)家 國(guó)家 專(zhuān)利數(shù) 現(xiàn)行衝擊指數(shù) 專(zhuān)利強(qiáng)度 專(zhuān)利數(shù) 現(xiàn)行衝擊指數(shù) 專(zhuān)利強(qiáng)度 PN C I I PS PN C I I PS 美國(guó) 8 6 ,9 7 2 1 .1 6 1 0 0 ,7 4 0 美國(guó) 8 7 ,9 0 1 1 .1 8 1 0 3 ,

40、5 2 8 日本 3 4 ,8 5 9 0 .9 1 3 1 ,8 5 6 日本 3 5 ,5 1 7 0 .8 9 3 1 ,6 2 5 德國(guó) 1 1 ,2 8 0 0 .6 2 6 ,9 3 9 德國(guó) 1 1 ,4 4 4 0 .6 1 6 ,9 9 0 臺(tái)灣 5 ,4 3 1 1 .0 0 5 ,4 3 3 臺(tái)灣 5 ,2 9 8 0 .8 8 4 ,6 7 6 南韓 3 ,7 8 6 0 .8 2 3 ,1 0 6 加拿大 3 ,4 2 6 0 .9 2 3 ,1 5 1 加拿大 3 ,4 3 1 0 .8 8 3 ,0 2 8 南韓 3 ,9 4 4 0 .7 9 3 ,1 0 8

41、英國(guó) 3 ,8 3 7 0 .7 4 2 ,8 3 3 英國(guó) 3 ,6 2 7 0 .7 6 2 ,7 4 2 法國(guó) 4 ,0 3 5 0 .6 4 2 ,5 6 9 法國(guó) 3 ,8 6 9 0 .6 1 2 ,3 6 3 瑞典 1 ,6 7 5 0 .7 6 1 ,2 7 4 以色列 1 ,1 9 3 1 .1 5 1 ,3 7 4 以色列 1 ,0 4 0 1 .0 8 1 ,1 2 1 瑞典 1 ,5 2 1 0 .8 0 1 ,2 1 8 義大利 1 ,7 5 0 0 .5 5 959 義大利 1 ,7 2 2 0 .5 4 922 荷蘭 1 ,3 9 1 0 .6 6 923 荷蘭

42、1 ,3 2 5 0 .6 6 880 瑞士 1 ,3 6 4 0 .5 7 772 芬蘭 865 0 .9 1 784 芬蘭 809 0 .9 4 759 瑞士 1 ,3 0 8 0 .5 4 705 新加坡 410 1 .6 4 672 澳洲 900 0 .7 7 696 澳洲 859 0 .7 8 666 新加坡 427 1 .4 8 631 註 1 . 專(zhuān)利所屬國(guó)別係以 U SP T O 定義以第一個(gè)發(fā)明人之國(guó)別為認(rèn)定標(biāo)準(zhǔn)。 2 .2 0 0 3 年的現(xiàn)行衝擊指數(shù)( c u rr e n t i m p a c t i n d e x ) 為各國(guó)前五年( 1 9 9 8 -2 0 0

43、2 年)之專(zhuān)利被 2003 年引用頻率 相對(duì)整體平均引用次數(shù)比值的加權(quán)平均值。 3 . 後期衝擊指數(shù)係為各國(guó)專(zhuān)利平均被引證次數(shù)相對(duì)整體專(zhuān)利平均被引證次數(shù)之比值。 資料來(lái)源: U SP T O 資料庫(kù),臺(tái)經(jīng)院計(jì)算整理。 2002 年 2003 年 技術(shù)創(chuàng)新的品質(zhì) 發(fā)明型專(zhuān)利 CII Rank4 因半導(dǎo)體製程技術(shù)專(zhuān)利 的減少,使得 CII下降 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -國(guó)家技術(shù)創(chuàng)新品質(zhì) 26 技術(shù)創(chuàng)新的參考來(lái)源 單位: 年 總計(jì) 美國(guó) 臺(tái)灣 日本 南韓 德國(guó) 加拿大 法國(guó) 英國(guó) 1991 1 0 0 .0 0 5 0 .1 9 1 6 .3 4 1 6 .9 9 0 .5 8 4 .0 2 1 .

44、9 5 1 .6 9 1 .7 9 1996 1 0 0 .0 0 4 3 .4 6 2 4 .2 6 1 8 .1 3 4 .0 2 2 .6 7 1 .8 3 1 .0 7 1 .0 5 1998 1 0 0 .0 0 4 3 .4 8 2 3 .9 1 1 7 .9 5 5 .8 6 1 .7 7 1 .4 3 1 .0 2 0 .8 3 2000 1 0 0 .0 0 4 3 .1 9 2 9 .6 2 1 5 .3 2 4 .2 6 1 .6 9 0 .9 6 0 .9 3 0 .6 6 2002 1 0 0 .0 0 4 4 .6 4 2 8 .2 7 1 4 .5 2 3 .8

45、2 1 .7 4 1 .0 6 1 .0 2 0 .6 9 2003 1 0 0 .0 0 4 4 .8 4 2 7 .7 3 1 4 .6 5 3 .4 5 1 .9 4 1 .1 9 0 .8 3 0 .7 6 註:表中各年臺(tái)灣專(zhuān)利引用來(lái)源國(guó)別分析,係以各年臺(tái)灣在美國(guó)核準(zhǔn)專(zhuān)利,其引證前五年各國(guó)專(zhuān)利 次 數(shù)分佈 為 分析基礎(chǔ)。 資料來(lái)源:臺(tái)灣經(jīng)濟(jì) 研 究院(2 0 0 3 ) 表1 1 臺(tái)灣在美國(guó)發(fā)明型專(zhuān)利引用來(lái)源分析- 以引用前五年專(zhuān)利次數(shù)為基礎(chǔ) 臺(tái)灣專(zhuān)利技術(shù)的知識(shí)學(xué)習(xí)來(lái)源,主要為美國(guó),約重引用次數(shù)的 45, 其次為臺(tái)灣( 28)、日本( 15)。 臺(tái)灣因自我技術(shù)的建立,專(zhuān)利數(shù)大幅上升,因

46、此,自我引用比重也相對(duì)上升。 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -國(guó)家創(chuàng)新知識(shí)流動(dòng) 27 各產(chǎn)業(yè)的技術(shù)創(chuàng)新表現(xiàn) 資料來(lái)源:臺(tái)灣經(jīng)濟(jì)研究院( 2004) 臺(tái)灣在 29個(gè)產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)明型專(zhuān)利核準(zhǔn)件數(shù)的變化 ( 1996-1999 vs. 2000-2003) 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新能量 0 500 1000 1500 2000 2500 3000 3500 4000 4500 5000 En v i r o n m e n t a l t e c h n o l o g y O r g a n i c f i n e c h e m i s t r y M a c r o m o l e c

47、u l a r c h e m i s t r y , p o l y m e r s Ph a r m a c e u t i c s , c o s m e t i c s B i o t e c h n o l o g y A g r i c u l t u r a l & f o o d p r o c e s s i n g m a c h i n e r y & a p p a r a t u s A g r i c u l t u r e , f o o d c h e m i s t r y O p t i c s A n a l y s i s , m e a s u r e

48、 m e n t , c o n t r o l t e c h n o l o g y M e d i c a l t e c h n o l o g y C h e m i c a l e n g i n e e r i n g C h e m i c a l i n d u s t r y , p e t r o l i n d u s t r y ,b a s i c m a t e r i a l s c h e m i s t r y M a t e r i a l s p r o c e s s i n g , t e x t i l e s p a p e r M a c h

49、i n e t o o l s M e c h a n i c a l e l e m e n t sH a n d l i n g , p r i n t i n g En g i n e s , p u m p s , t u r b i n e s N u c l e a r e n g i n e e r i n g M a t e r i a l s ,m e t a l l u r g y S u r f a c e t e c h n o l o g y , c o a t i n g T h e r m a l p r o c e s s e s a n d a p p a r

50、 a t u s T r a n s p o r t S p a c e t e c h n o l o g y , we a p o n s El e c t r i c a l d e v i c e s , e n g i n e e r i n g & e n e r g y S e m i c o n d u c t o r s I n f o r m a t i o n t e c h n o l o g y T e l e c o m m u n i c a t i o n s A u d i o - v i s u a l t e c h n o l o g y C o n s

51、 u m e r g o o d s a n d e q u i p m e n t 1 9 9 6 - 1 9 9 9 2 0 0 0 - 2 0 0 3 28 技術(shù)集中度之檢視 主要國(guó)家專(zhuān)利技術(shù)之集中度( A d j u s t e d H e rfi n d a h l I n d e x ) (以 U S P T O 之發(fā)明型專(zhuān)利為基礎(chǔ)) 0 0 . 0 1 0 . 0 2 0 . 0 3 0 . 0 4 0 . 0 5 0 . 0 6 0 . 0 7 1981 1982 1983 1984 1985 1986 1987 1988 1989 1990 1991 1992 1993 19

52、94 1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 U S A JP TW KR F I N SE FR GB IL DE 資料來(lái)源:林秀英 (2004) 臺(tái)灣專(zhuān)利過(guò)度集中在某幾個(gè)領(lǐng)域的情況, 在 2002-2003年獲得 改善,顯示技術(shù)朝更多角化發(fā)展。 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -技術(shù)領(lǐng)域創(chuàng)新能量 29 各國(guó)在半導(dǎo)體製程領(lǐng)域?qū)@芰孔兓?單位:件, 件數(shù) 年平均 成長(zhǎng)率 件數(shù) 年平均 成長(zhǎng)率 件數(shù) 年平 均成 長(zhǎng)率 件數(shù) 年平均 成長(zhǎng)率 件數(shù) 年平均成 長(zhǎng)率 總計(jì) 4 3 , 1 5 9 1 1 . 3 3 5 2 , 4 0 7 1 3 . 0 9

53、 2 , 5 6 2 8 . 6 6 2 4 , 0 9 0 1 0 . 8 0 348 -1 6 . 5 1 美國(guó) 1 9 , 1 2 3 1 1 . 6 9 6 , 4 7 4 1 3 . 4 2 1 , 7 1 7 7 . 5 4 1 0 , 7 5 6 1 1 . 8 8 176 -1 7 . 8 2 日本 1 1 , 9 8 9 1 0 . 2 0 6 , 1 3 0 1 1 . 0 4 439 -0 . 4 1 5 , 3 1 1 1 0 . 7 5 109 -1 8 . 1 0 臺(tái)灣 5 , 2 8 1 4 . 6 8 1 , 1 6 2 1 7 . 0 4 51 1 1 . 9

54、 6 4 , 0 6 8 0 . 3 3 0 - 南韓 3 , 0 4 0 1 0 . 3 1 918 7 . 3 5 84 2 2 . 4 7 2 , 0 3 5 1 1 . 7 5 3 -1 0 0 . 0 0 德國(guó) 1 , 0 7 2 2 4 . 7 9 485 2 6 . 0 6 60 3 5 . 7 9 503 2 3 . 0 8 24 0 . 0 0 新加坡 528 4 2 . 9 6 92 4 8 . 4 6 5 - 431 4 0 . 7 6 法國(guó) 431 1 5 . 9 8 166 1 2 . 4 7 34 4 9 . 5 3 225 1 5 . 8 3 6 1 8 . 9

55、2 義大利 414 8 . 2 1 174 9 . 4 2 27 1 0 . 6 7 213 6 . 4 8 註:專(zhuān)利分類(lèi)係採(cǎi) ori gina l c las s ic if ic at ion ,領(lǐng)域別的專(zhuān)利碼參考 J af f e & T raj t enber g (200 2) 分類(lèi)定義。 資料來(lái)源: U SP T O ,臺(tái)灣經(jīng)濟(jì) 研 究院計(jì)算。 超導(dǎo)技術(shù) ( 設(shè)備、材 料及程序) 半導(dǎo)體元件合計(jì) 主動(dòng)固態(tài)元件 電子數(shù)位邏輯 電路 半導(dǎo)體元件製造 ( 程序 ) 主要國(guó)家在美國(guó) 1 9 9 9 -2 0 0 3 年獲得半導(dǎo)體元件類(lèi)之專(zhuān)利核準(zhǔn)數(shù)合計(jì) U P C 2 5 7 U P C 3

56、 2 6 U P C 4 3 8 U P C 5 0 5 在半導(dǎo)體元件類(lèi)專(zhuān)利,臺(tái)灣以 UPC 438 半導(dǎo)體製程專(zhuān)利最多,約佔(zhàn)八成, 但近二年來(lái)減少幅度達(dá) 20-30。相對(duì)地,在 UPC 257主動(dòng)固態(tài)元件專(zhuān)利則 持續(xù)增加,增幅接近二成。 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -新興技術(shù)領(lǐng)域創(chuàng)新能量 30 主要國(guó)家在 LCD領(lǐng)域之專(zhuān)利能量之變化趨勢(shì) 主要國(guó)家在美國(guó)L CD 類(lèi)專(zhuān)利核準(zhǔn)數(shù) 300 800 1300 1800 2300 2800 3300 3800 1981 1982 1983 1984 1985 1986 1987 1988 1989 1990 1991 1992 1993 1994 1995

57、 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 JP US 0 50 100 150 200 250 300 350 400 1981 1982 1983 1984 1985 1986 1987 1988 1989 1990 1991 1992 1993 1994 1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 KR DE GB TW CA FR BE IL NL CH IT SE AU 臺(tái)灣 美國(guó) 南韓 日本 德國(guó) 英國(guó) 資料來(lái)源: USPTO,臺(tái)灣經(jīng)濟(jì)研究院( 2004) 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -新興技術(shù)領(lǐng)域創(chuàng)新

58、能量 31 南韓與臺(tái)灣在 1 9 9 9 - 2 0 0 3 年美國(guó)獲得之 L C D 領(lǐng)域?qū)@?shù) 0 50 100 150 200 250 300 350 400 450 500 349 356 359 382 399 430 KR TW 液晶單元、元件及系統(tǒng) 化學(xué)輻射顯 像:製程、組 成或 產(chǎn) 品 電子攝影 影像分析 光學(xué):量測(cè)與測(cè) 試 光學(xué):系統(tǒng)與元件 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -新興技術(shù)領(lǐng)域創(chuàng)新能量 32 31 32 33 39 醫(yī)藥類(lèi) 醫(yī)學(xué)器材類(lèi) 生物科技類(lèi) 其他 D rug Sur gery & M edic al I ns t rum ent s Biot ec hnol ogy

59、 M is c ella neous 件數(shù) 年平均成長(zhǎng)率 總計(jì) 42, 562 36, 561 25, 427 7, 806 112, 356 0. 15 美國(guó) 24, 703 26, 662 17, 110 5, 111 73, 586 -0. 70 日本 3, 638 2, 356 1, 939 571 8, 504 -0. 55 德國(guó) 2, 954 1, 557 1, 111 496 6, 118 3. 53 法國(guó) 2, 388 630 735 266 4, 019 0. 85 英國(guó) 2, 280 711 887 133 4, 011 -3. 22 加拿大 1, 245 550 783

60、120 2, 698 0. 33 瑞典 492 667 194 99 1, 452 5. 66 以色列 434 620 191 111 1, 356 10. 86 義大利 706 302 132 131 1, 271 0. 23 瑞士 510 492 434 422 343 0. 65 荷蘭 309 356 354 56 1, 075 -5. 18 丹麥 422 191 377 24 1, 014 -0. 14 澳洲 343 302 234 57 936 0. 47 南韓 277 157 159 47 640 14. 24 臺(tái)灣 132 262 102 140 636 9. 68 比利時(shí) 30

61、4 72 233 23 632 -1. 25 印度 239 13 90 11 353 37. 08 芬蘭 112 119 88 20 339 0. 00 奧地利 115 72 91 58 336 3. 34 西班牙 148 38 42 18 246 2. 47 註:專(zhuān)利分類(lèi)係採(cǎi) ori gina l c las s ic if ic at ion ,領(lǐng)域別的專(zhuān)利碼參考 J af f e & T raj t enber g (200 2) 分類(lèi)定義。 資料來(lái)源: U SP T O ,臺(tái)灣經(jīng)濟(jì) 研 究院計(jì)算。 主要國(guó)家在美國(guó) 1 9 9 9 -2 0 0 3 年獲得醫(yī)學(xué)醫(yī)藥類(lèi) (D r u g &

62、 M e d i c a l ) 之專(zhuān)利核準(zhǔn)數(shù)合計(jì) SU M 醫(yī)學(xué)醫(yī)藥類(lèi)合計(jì) 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -新興技術(shù)領(lǐng)域創(chuàng)新能量 33 創(chuàng)新系統(tǒng)各角色的專(zhuān)利表現(xiàn) 資料來(lái)源:林秀英 (2004) 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -NIS成員技術(shù)創(chuàng)新能量 34 T h e ch a n g e in sh a r e o f P C a sse m b lers in p a te n t a p p li ca tio n 0.25 0.3 0.35 0.4 0.45 0.5 86 87 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97 CPU Memory Disk Display 業(yè)者間創(chuàng)新角

63、色的轉(zhuǎn)換 全球主要十家 PC組裝業(yè)者對(duì)於各模組的專(zhuān)利申請(qǐng)比重 圖中的結(jié)果顯示在 90年代組裝業(yè)者申請(qǐng)關(guān)鍵模組專(zhuān)利大幅減少。這表示 關(guān)鍵模組技術(shù)的開(kāi)發(fā)已經(jīng)轉(zhuǎn)由模組供應(yīng)商接手 資料來(lái)源: Kodama(2003) 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -產(chǎn)業(yè)中創(chuàng)新主角之地位轉(zhuǎn)換 - 35 臺(tái)灣學(xué)研官部門(mén)在美國(guó)獲得之專(zhuān)利數(shù) 研 究機(jī)構(gòu) 1999 2000 2001 2002 2003 工研院 204 193 211 220 211 中科院 6 11 9 18 18 資策會(huì) 1 3 1 14 5 食品 研 究所 2 3 7 6 4 核能 研 究所 2 1 1 3 1 金屬中心 0 1 3 0 0 生技中心 6 5

64、9 1 2 紡織中心 4 2 3 0 2 鞋技中心 0 0 0 1 1 製藥工業(yè)科技發(fā)展中心 3 1 精密機(jī)械 研 究發(fā)展中心 2 1 中 研 院 4 4 15 14 14 國(guó)科會(huì) 74 65 78 52 25 精密儀器中心 ( 國(guó)科會(huì)) 2 2 2 成功大學(xué) 3 0 臺(tái)灣大學(xué) 1 2 清 華大學(xué) 1 1 0 0 雲(yún)林科技大學(xué) 3 師範(fàn)大學(xué) 2 中央大學(xué) 2 元智大學(xué) 1 逢甲大學(xué) 1 中國(guó)醫(yī)藥大學(xué) 1 高雄醫(yī)學(xué)大學(xué) 2 交通大學(xué) 2 陽(yáng)明醫(yī)學(xué)院 1 亞?wèn)|技術(shù)學(xué)院 1 註: 本表係以專(zhuān)利權(quán)人 為 計(jì)算基礎(chǔ),非以第一發(fā)明人 為 認(rèn)定基礎(chǔ)。 資料來(lái)源: U S P TO ,臺(tái)經(jīng)院計(jì)算。 臺(tái)灣研究機(jī)

65、構(gòu) / 大學(xué)在美國(guó)專(zhuān)利獲得數(shù)比較 在學(xué)研官部門(mén)的專(zhuān)利表現(xiàn)中, 以工研院表現(xiàn)最佳, 2003年在 美國(guó)獲得 211件專(zhuān)利,國(guó)內(nèi)排 名第三,全球排名第 72名, 高於日本 AIST(37件)、 澳洲 CSIRO(25件)、德國(guó) FRAUNHOFER(80件 )、韓國(guó) KAIST(59件 ) 、 KIST(38件 ), 表現(xiàn)出色。 1999年開(kāi)始實(shí)施科學(xué)基本法後, 專(zhuān)利權(quán)下放給各機(jī)構(gòu)與大學(xué)。 工研院專(zhuān)利持續(xù)表現(xiàn)亮麗,但 國(guó)科會(huì)專(zhuān)利數(shù)明顯減少,以大 學(xué)為名義的專(zhuān)利數(shù)在 2003年 逐漸上升,但國(guó)科會(huì)與大學(xué)名 義合計(jì)專(zhuān)利數(shù)仍呈下降趨勢(shì)。 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -NIS成員技術(shù)創(chuàng)新能量 36 全球最具影

66、響力之專(zhuān)利 -臺(tái)灣企業(yè)與經(jīng)濟(jì)部科專(zhuān)計(jì)畫(huà)的表現(xiàn) 總計(jì)畫(huà)名稱(chēng) 專(zhuān)利核準(zhǔn)年 件數(shù) 次微米製程技術(shù)發(fā)展五年計(jì)畫(huà) 1992 1995 25 深次微米技術(shù)發(fā)展五年計(jì)畫(huà) 1997 1999 15 微電子零組件技術(shù)發(fā)展四年計(jì)畫(huà) 1992 1996 10 通訊電子技術(shù)發(fā)展第二期五年計(jì)畫(huà) 1995 1998 7 資訊系統(tǒng)平臺(tái)技術(shù)發(fā)展五年計(jì)畫(huà) 1999 2000 7 光資訊系統(tǒng)技術(shù)發(fā)展五年計(jì)畫(huà) 1997 1998 6 分散式資訊處理技術(shù)發(fā)展五年計(jì)畫(huà) 1994 1995 5 無(wú)線通訊技術(shù)發(fā)展第二期五年計(jì)畫(huà) 2000 2001 4 電子系統(tǒng)構(gòu)裝技術(shù)發(fā)展五年計(jì)畫(huà) 1993 1999 4 前瞻性資訊與通訊技術(shù) 研 究五年計(jì)畫(huà) 1999 2000 3 高畫(huà)質(zhì)視訊技術(shù)發(fā)展五年計(jì)畫(huà) 1993 1996 3 深次微米設(shè)備及智權(quán)維護(hù)特具計(jì)畫(huà) 2000 3 微電子系統(tǒng)關(guān)鍵技術(shù)發(fā)展四年計(jì)畫(huà) 1997 1998 3 平面顯示技術(shù)發(fā)展四年計(jì)畫(huà) 1996 1997 2 平面顯示關(guān)鍵技術(shù)發(fā)展六年計(jì)畫(huà) 2000 2001 2 智慧型資訊系統(tǒng)技術(shù)發(fā)展五年計(jì)畫(huà) 2001 2 微電子技術(shù)發(fā)展四年計(jì)畫(huà) 1991 2 微電子系統(tǒng)關(guān)鍵技術(shù)三年計(jì)畫(huà) 2

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