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太陽能電池調(diào)研報告(共9頁)

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1、精選優(yōu)質(zhì)文檔-----傾情為你奉上 單晶硅太陽能電池 1. 能源現(xiàn)狀 2. 太陽能電池概述 3. 太陽能電池工作原理 4. 單晶硅太陽能電池的生產(chǎn)及應(yīng)用 1.能源現(xiàn)狀 能源是發(fā)展國民經(jīng)濟和提高人民生活水平的重要物質(zhì)基礎(chǔ), 也是直接影響經(jīng)濟發(fā)展的一個重要的因素。然而地球儲藏的化石能源有限,煤炭、石油等不可再生能源頻頻告急,同時化石能源的大量使用使環(huán)境污染日趨嚴重。 圖1:中國和世界的能源結(jié)構(gòu) 能源枯竭 石油:42年,天然氣:67年,煤:200年 。 環(huán)境污染 每年排放的二氧化碳達210萬噸,并呈上升趨勢,造成

2、 全球氣候變暖;空氣中大量二氧化碳,粉塵含量己嚴重 影響人們的身體健康和人類賴以生存的自然環(huán)境。 可再生能源: 風能;水能;地熱;潮汐;太陽能等 為此,各個國家積極發(fā)展低碳經(jīng)濟,越來越多的開發(fā)利用清潔能源。其中太陽能取之不盡,用之不竭,并且無污染,是最具開發(fā)和應(yīng)用前景的清潔能源之一,優(yōu)越性非常突出。太陽能電池是利用太陽能的良好途徑之一,近些年來不斷受到人們的重視,許多國家開始實行“陽光計劃”, 尋求經(jīng)濟發(fā)展的新動力。使得其成為發(fā)展最快、最具活力的研究領(lǐng)域。 太陽能利用的重要途徑之一是研制太陽能電池 2.太陽能

3、電池概述 1)太陽能電池定義 太陽能電池,又稱光伏器件,是一種利用光生伏特效應(yīng)把光能轉(zhuǎn)變?yōu)殡娔艿钠骷?。它是太陽能光伏發(fā)電的基礎(chǔ)和核心。 2)太陽能電池的發(fā)展 世界太陽能電池發(fā)展的主要節(jié)點 1954 美國貝爾實驗室發(fā)明單晶硅太陽能電池,效率為6% 1955 第一個光伏航標燈問世,美國RCA發(fā)明Ga As太陽能電池 1958 太陽能電池首次裝備于美國先鋒1號衛(wèi)星,轉(zhuǎn)換效率為8%。 1959 第一個單晶硅太陽能電池問世。 1960 太陽能電池首次實現(xiàn)并網(wǎng)運行。 1974 突破反射絨面技術(shù),硅太陽能電池效率達到18%。 1975 非晶硅及帶硅太陽能電池問世 1978 美國建成1

4、00KW光伏電站 1980 單晶硅太陽能電池效率達到20%多晶硅為14.5%,Ga As為22.5% 1986 美國建成6.5KW光伏電站 1990 德國提出“2000光伏屋頂計劃” 1995 高效聚光Ga As太陽能電池問世,效率達32%。 1997 美國提出“克林頓總統(tǒng)百萬太陽能屋頂計劃,日本提出“新陽光計劃” 1998 單晶硅太陽能電池效率達到24.7%,荷蘭提出“百萬光伏屋頂計劃” 2000 世界太陽能電池總產(chǎn)量達287MW,歐洲計劃2010年生產(chǎn)60億瓦光伏電池 3)太陽能電池的應(yīng)用 家庭屋頂并網(wǎng)發(fā)電系統(tǒng) 路燈 發(fā)電站 3太陽能電池的工作原

5、理 1)太陽能電池的結(jié)構(gòu) 硅太陽能電池的基本結(jié)構(gòu)如圖所示,它的核心結(jié)構(gòu)是N型硅/P型硅構(gòu)成的活性層。 通過特殊工藝向硅晶體中摻入少量的三價硼就可以構(gòu)成P(positive)型硅。未摻雜的硅晶體中,每個硅原子通過共價鍵與周圍4個硅原子相連。摻入少量硼后,硼原子取代某些硅原子的位置,并且在這些硅原子的位置上也與周圍4個硅原子形成共價鍵。因為硼原子只有3個價電子,與周圍4個硅原子成鍵時缺少1個電子,它需要從硅晶體中獲取1個電子才能形成穩(wěn)定結(jié)構(gòu)。結(jié)果,硼原子變成負離子,硅晶體中形成空穴(空穴帶一個單位的正電荷)。 如果向硅晶體中摻入少量五價磷或者砷就構(gòu)成了N(negative)型硅,例如摻

6、入磷。摻入的磷原子同樣取代硅原子的位置,并與周圍的4個硅原子形成共價鍵。因為磷原子有5個價電子,成鍵后剩下1個價電子,這個電子受到的束縛力比共價鍵上的電子小得多,很容易脫離磷原子,成為自由電子,結(jié)果該磷原子成為正離子。需要說明的是,P型和N型硅都是電中性的。 2)PN結(jié)形成過程 當把P型硅與N型硅通過一定方式結(jié)合在一起時,發(fā)生如圖所示的P N結(jié)形成過程。 在N區(qū)(N型硅一側(cè))與P區(qū)(P型硅一側(cè))的交界面附近,N區(qū)的自由電子較多空穴較少,P區(qū)則是空穴較多自由電子較少,這樣在P區(qū)和N區(qū)之間出現(xiàn)空穴和自由電子的濃度差。濃度差導(dǎo)致空穴從P區(qū)向N區(qū)擴散,自由電子從N區(qū)向P區(qū)擴散,二者在界面附近

7、復(fù)合。P區(qū)界面附近帶正電荷的空穴離開后,留下帶負電荷的硼,因此形成1個負電荷區(qū)。 同理,在N區(qū)界面附近出現(xiàn)1個正電荷區(qū)。 通常把交界面附近的這種正、負電荷區(qū)域叫做空間電荷區(qū)??臻g電荷區(qū)中的正、負電荷產(chǎn)生1個由N區(qū)指向P區(qū)的內(nèi)建電場。在內(nèi)建電場的作用下,空穴和電子發(fā)生漂移,方向與它們各自的擴散方向相反,即電子從P區(qū)漂移到N區(qū),空穴從N區(qū)漂移到P區(qū)。顯然,內(nèi)建電場同時又起著阻礙電子和空穴繼續(xù)擴散的作用。隨著擴散的進行,空間電荷逐漸增多,內(nèi)建電場逐漸增強,空穴和電子的漂移也逐漸增強,但空穴和電子的擴散卻逐漸變?nèi)?。無外界影響時,空穴和電子的擴散和漂移最終達到動態(tài)平衡。此時,空間電荷的數(shù)量一定,空間

8、電荷區(qū)不再擴展,內(nèi)建電場的大小就確定下來。 3)太陽能電池發(fā)電原理 當具有一定能量的光子入射到P N結(jié)表面時,光子在硅表面及體內(nèi)激發(fā)產(chǎn)生大量的電子-空穴對。由于入射光的強度因材料的吸收而不斷衰減,因而沿著光照方向,材料內(nèi)部電子-空穴對的濃度逐漸降低,這導(dǎo)致電子–空穴對向內(nèi)部擴散。當電子-空穴對擴散到P N結(jié)邊界時,在內(nèi)建電場的作用下,空穴、電子被分別拉向P區(qū)和N區(qū),電子-空穴對被分離。空穴在P區(qū)積累,電子在N區(qū)積累,結(jié)果產(chǎn)生一個與內(nèi)建電場方向相反的光生電場,在P區(qū)和N區(qū)之間形成與P N結(jié)電勢反向的光生電勢,這就是著名的光生伏特效應(yīng)。 電荷運動的勢壘:p-n結(jié)區(qū)內(nèi)形成的內(nèi)建電場。阻

9、礙電子從n區(qū)向p區(qū)運動,空穴從p區(qū)向n區(qū)運動。 光子入射:造成躍遷產(chǎn)生空穴-電子對。 光電池:空穴、電子通過外電路復(fù)合,在電路中產(chǎn)生電流。 半導(dǎo)體中可以利用各種勢壘如pn結(jié)、肖特基勢壘、異質(zhì)結(jié)等形成光伏效應(yīng)。 當太陽能電池受到陽光照射時,光與半導(dǎo)體相互作用可以產(chǎn)生光生載流子,所產(chǎn)生的電子-空穴對靠半導(dǎo)體內(nèi)形成的勢壘分開到兩極,正負電荷分別被上下電極收集。由電荷聚集所形成的電流通過金屬導(dǎo)線流向電負載。 該效應(yīng)使P N結(jié)內(nèi)部形成自N區(qū)向P區(qū)的光生電流,當P N結(jié)與外電路接通,只要光照不停止,就會有電流源源不斷地通過電路。 3單晶硅的生產(chǎn)應(yīng)用 1)太陽能電池材

10、料 2)無機太陽能電池的性能及應(yīng)用 單晶硅太陽能電池,是以高純的單晶硅棒為原料的太陽能電池,是當前開發(fā)得最快的一種太陽能電池。它的構(gòu)造和生產(chǎn)工藝已定型,產(chǎn)品已廣泛用于空間和地面。 3)國內(nèi)太陽能電池用硅材料現(xiàn)狀 硅單晶產(chǎn)量2004年單晶硅產(chǎn)量(噸) 單晶總產(chǎn)量 1700 太陽能單晶產(chǎn)量 1200 太陽能單晶生產(chǎn)能力 2000 近年來我國硅單晶產(chǎn)量 4)單晶硅太陽能電池的生產(chǎn)工藝 太陽能電池片制作工藝流程圖 單晶硅棒切片 切片要求:①切割精度高、表面平行度高、翹曲度和厚度

11、公差小。②斷面完整性好,消除拉絲、刀痕和微裂紋。③提高成品率,縮小刀(鋼絲)切縫,降低原材料損耗。④提高切割速度,實現(xiàn)自動化切割。 具體的制作工藝說明 (1) 切片:采用多線切割,將硅棒切割成正方形的硅片。 (2) 清洗:用常規(guī)的硅片清洗方法清洗,然后用酸(或堿)溶液將硅片表面切割損傷層除去30-50um。 (3) 制備絨面:用堿溶液對硅片進行各向異性腐蝕在硅片表面制備絨面。 (4) 磷擴散:采用涂布源(或液態(tài)源,或固態(tài)氮化磷片狀源)進行擴散,制成PN結(jié),結(jié)深一般為0.3-0.5um。 (5) 周邊刻蝕:擴散時在硅片周邊表面形成的擴散層,會使電池上下電極短路,用掩蔽濕法腐蝕或等離子干法

12、腐蝕去除周邊擴散層。 (6) 去除背面PN+結(jié)。常用濕法腐蝕或磨片法除去背面PN+結(jié)。 (7) 制作上下電極:用真空蒸鍍、化學(xué)鍍鎳或鋁漿印刷燒結(jié)等工藝。先制作下電極,然后制作上電極。鋁漿印刷是大量采用的工藝方法。 (8) 制作減反射膜:為了減少入反射損失,要在硅片表面上覆蓋一層減反射膜。制作減反射膜的材料有MgF2 ,SiO2 ,Al2O3 ,SiO ,Si3N4 ,TiO2 ,Ta2O5等。工藝方法可用真空鍍膜法、離子鍍膜法,濺射法、印刷法、PECVD法或噴涂法等。 (9) 燒結(jié):將電池芯片燒結(jié)于鎳或銅的底板上。 (10)測試分檔:按規(guī)定參數(shù)規(guī)范,測試分類。 太陽能電池組件封裝工藝流程

13、流程: 1、 電池檢測——2、正面焊接—檢驗—3、背面串接—檢驗—4、敷設(shè)(玻璃清洗、材料切割、玻璃預(yù)處理、敷設(shè))——5、層壓——6、去毛邊(去邊、清洗)——7、裝邊框(涂膠、裝角鍵、沖孔、裝框、擦洗余膠)——8、焊接接線盒——9、高壓測試——10、組件測試—外觀檢驗—11、包裝入庫 提高單晶硅太陽能電池效率的特殊技術(shù): 晶體硅太陽能電池的理論效率為33%(AM1.5光譜條件下)。太陽能電池的理論效率與入射光能轉(zhuǎn)變成電流之前的各種可能損耗的因素有關(guān)。其中,有些因素由太陽能電池的基本物理決定的,有些則與材料和工藝相關(guān)。從提高太陽能電池效率的原理上講,應(yīng)從以下幾方面著手: 1、 減

14、少太陽能電池薄膜光反射的損失 2、 降低PN結(jié)的正向電池(俗稱太陽能電池暗電流) 3、 PN結(jié)的空間電荷區(qū)寬度減少,幷減少空間電荷區(qū)的復(fù)合中心。 4、 提高硅晶體中少數(shù)載流子壽命,即減少重金屬雜質(zhì)含量和其他可作為復(fù)合中心的雜質(zhì),晶體結(jié)構(gòu)缺陷等。 5、 當采取太陽能電池硅晶體各區(qū)厚度和其他結(jié)構(gòu)參數(shù)。 目前提高太陽能電池效率的主要措施如下,而各項措施的采用往往引導(dǎo)出相應(yīng)的新的工藝技術(shù)。 (1) 選擇長載流子壽命的高性能襯底硅晶體。 (2) 太陽能電池芯片表面制造絨面或倒金字塔多坑表面結(jié)構(gòu)。電池芯片背面制作背面鏡,以降低表面反射和構(gòu)成良好的隔光機制。 (3) 合理設(shè)計發(fā)射結(jié)結(jié)構(gòu),以收集盡可能多的光生載流子。 (4) 采用高性能表面鈍化膜,以降低表面復(fù)合速率。 (5) 采用深結(jié)結(jié)構(gòu),并在金屬接觸處加強鈍化。 (6) 合理的電極接觸設(shè)計以達到低串聯(lián)電阻等。 專心---專注---專業(yè)

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