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2018屆高考化學(xué)三輪沖刺 碳、硅及其化合物仿真模擬訓(xùn)練.doc

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2018屆高考化學(xué)三輪沖刺 碳、硅及其化合物仿真模擬訓(xùn)練.doc

碳、硅及其化合物一、選擇題1開發(fā)新材料是現(xiàn)代科技發(fā)展的方向之一。下列有關(guān)材料的說法正確的是( )A氮化硅陶瓷是新型無機非金屬材料B普通玻璃、有機玻璃都屬于硅酸鹽C纖維素乙酸酯屬于天然高分子材料D單晶硅常用于制造光導(dǎo)纖維2在一定條件下,下列各組物質(zhì)不能反應(yīng)的是( )CO2+H2O H2O+CO CO+CO2 CO2+C CaCO3+H2CO3 CO+Fe2O3 Mg+CO2CO+Ca(OH)2 CO2+Na2O2A B C D僅3石棉屬于硅酸鹽礦物,某種石棉的化學(xué)式可表示為Ca2MgxSiyO22(OH)2,該化學(xué)式中x、y的值分別是( )A5、8 B8、3 C3、8 D8、54工業(yè)上通過反應(yīng)“SiO22CSi2CO”制取單質(zhì)硅,下列說法正確的是( )A自然界中硅元素均以SiO2形式存在B硅的化學(xué)性質(zhì)不活潑,常溫下不與任何物質(zhì)反應(yīng)C該反應(yīng)條件下C的還原性比Si強 D生成4.48 L CO時轉(zhuǎn)移電子數(shù)為0.46.0310235氯氣用途十分廣泛,可用于生產(chǎn)半導(dǎo)體材料硅,其生產(chǎn)的流程如下,下列說法正確的是( )A是置換反應(yīng),是化合反應(yīng)B高溫下,焦炭與氫氣的還原性均弱于硅的C任一反應(yīng)中,每消耗或生成28 g硅,均轉(zhuǎn)移2 mol電子D高溫下將石英砂、焦炭、氯氣、氫氣按一定比例混合可得高純硅6SiO2是一種化工原料,可以制備一系列物質(zhì)(如圖所示)。下列說法錯誤的是( )A高爐煉鐵時,加入石灰石將鐵礦石中的脈石(主要成分為SiO2)轉(zhuǎn)化為易熔的爐渣B純凈的二氧化硅和單晶硅都是信息產(chǎn)業(yè)的重要基礎(chǔ)材料C用鹽酸可除去石英砂(主要成分為SiO2)中少量的碳酸鈣D圖中所含反應(yīng)都不屬于氧化還原反應(yīng)7將足量的CO2不斷通入KOH、Ba(OH)2、KAlO2的混合溶液中,生成沉淀的物質(zhì)的量與所通入CO2的體積關(guān)系如圖所示。下列關(guān)于整個反應(yīng)過程中的敘述不正確的是( )AOa段反應(yīng)的化學(xué)方程式是Ba(OH)2+CO2BaCO3+H2OBab段與cd段所發(fā)生的反應(yīng)相同Cde段沉淀減少是由于BaCO3固體溶解Dbc段反應(yīng)的離子方程式是2+3H2O+CO22Al(OH)3+二、非選擇題8、M元素的一種單質(zhì)是一種重要的半導(dǎo)體材料,含M元素的一種化合物W可用于制造高性能的現(xiàn)代通訊材料光導(dǎo)纖維,W與燒堿反應(yīng)生成含M元素的化合物X。(1)在元素周期表中,M位于第_族,與M同族但相對原子質(zhì)量比M小的N元素的原子結(jié)構(gòu)示意圖為_,M與N核外電子層結(jié)構(gòu)上的相同點是_。 (2)易與W發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的酸是_,反應(yīng)的化學(xué)方程式是_。(3)將W與純堿混合高溫熔融時發(fā)生反應(yīng)生成X,同時還生成N的最高價氧化物Y;將全部的Y與全部的X在足量的水中混合后,又發(fā)生反應(yīng)生成含M的化合物Z。分別寫出生成X和Z的化學(xué)方程式: _。要將純堿高溫熔化,下列坩堝中不可選用的是_。A普通玻璃坩堝B石英玻璃坩堝C鐵坩堝(4)100 g W與石灰石的混合物充分反應(yīng)后,生成的氣體在標(biāo)準(zhǔn)狀況下的體積為11.2 L,100 g該混合物中石灰石的質(zhì)量分?jǐn)?shù)是_。9、硅是重要的化學(xué)元素之一,在從傳統(tǒng)材料到信息材料的發(fā)展過程中,其創(chuàng)造了一個又一個奇跡。請回答下列問題:(1)硅在元素周期表中的位置是_。(2)工業(yè)上生產(chǎn)粗硅的反應(yīng)有SiO22CSi(粗硅)2CO;SiO23CSiC2CO。若產(chǎn)品中單質(zhì)硅與碳化硅的物質(zhì)的量之比為11,則參加反應(yīng)的C和SiO2的質(zhì)量之比為_。(3)工業(yè)上可以通過如圖所示的流程制取純硅:若反應(yīng)的化學(xué)方程式為Si(粗硅)3HClSiHCl3H2,則反應(yīng)的化學(xué)方程式為_。整個制備過程必須嚴(yán)格控制無水、無氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫出該反應(yīng)的化學(xué)方程式:_。假設(shè)每一輪次制備1 mol純硅,且生產(chǎn)過程中硅元素沒有損失,反應(yīng)中HCl的利用率為90%,反應(yīng)中H2的利用率為93.75%,則在第二輪次的生產(chǎn)中,補充投入HCl和H2的物質(zhì)的量之比是_。10、單晶硅是信息產(chǎn)業(yè)中重要的基礎(chǔ)材料。通常用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含鐵、鋁、硼、磷等雜質(zhì)),粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度450500 ),四氯化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實驗室制備四氯化硅的裝置示意圖。相關(guān)信息如下:a四氯化硅遇水極易水解;b硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接反應(yīng)生成相應(yīng)的氯化物;c有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見下表:物質(zhì)SiCl4BCl3AlCl3FeCl3PCl5沸點/57.712.8315熔點/70.0107.2升華溫度/180300162請回答下列問題:(1)寫出裝置A中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式:_。(2)裝置A中g(shù)管的作用是_;裝置C中的試劑是_;裝置E中的h瓶需要冷卻的理由是_。(3)裝置E中h瓶收集到的粗產(chǎn)物可通過精餾(類似多次蒸餾)得到高純度四氯化硅,精餾后的殘留物中,除鐵元素外可能還含有的雜質(zhì)元素是_(填寫元素符號)。(4)為了分析殘留物中鐵元素的含量,先將殘留物預(yù)處理,使鐵元素還原成Fe2,再用KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液在酸性條件下進行氧化還原滴定,反應(yīng)的離子方程式為5Fe2MnO8H=5Fe3Mn24H2O。滴定前是否要滴加指示劑?_(填“是”或“否”),請說明理由:_。某同學(xué)稱取5.000 g殘留物,經(jīng)預(yù)處理后在容量瓶中配制成100 mL溶液,移取25.00 mL試樣溶液,用1.000102 mol L1 KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定。達(dá)到滴定終點時,消耗標(biāo)準(zhǔn)溶液20.00 mL,則殘留物中鐵元素的質(zhì)量分?jǐn)?shù)是_。11、在電子工業(yè)中利用鎂制取硅的反應(yīng)為2MgSiO22MgOSi,同時會發(fā)生副反應(yīng):2MgSiMg2Si,Mg2Si遇鹽酸迅速反應(yīng)生成SiH4(硅烷),SiH4在常溫下是一種不穩(wěn)定、易自燃的氣體。下圖是進行Mg與SiO2反應(yīng)的實驗裝置。試回答下列問題:(1)由于O2和H2O(g)的存在對該實驗有不良影響,實驗中應(yīng)通入X氣體作為保護氣,在A、B、C三種儀器中應(yīng)加入的試劑分別是:A_,B_,C_。(填序號)稀硫酸 濃硫酸 稀鹽酸 石灰石 純堿 鋅粒(2)實驗開始時,必須先通入X氣體,再加熱反應(yīng)物,其理由是 _,當(dāng)反應(yīng)引發(fā)后,移走酒精燈,反應(yīng)能繼續(xù)進行,其原因是 _。(3)反應(yīng)結(jié)束后,待冷卻至常溫時,往反應(yīng)后的混合物中加入稀鹽酸,可觀察到閃亮的火星,產(chǎn)生此現(xiàn)象的原因用化學(xué)方程式表示為 _,_。參考答案及解析一、選擇題1【答案】A【解析】本題考查材料的應(yīng)用判斷。A、氮化硅陶瓷是新型無機非金屬材料,A正確;B、有機玻璃不屬于硅酸鹽,B錯誤;B、纖維素為天然高分子化合物,而纖維素乙酸酯是人工合成的,C錯誤;D、單晶硅是半導(dǎo)體材料,二氧化硅是制造光導(dǎo)纖維的主要材料,D錯誤。答案選A。2【答案】D【解析】在一定條件下,中生成H2CO3,中生成CO2和H2,中CO與CO2不反應(yīng),中生成CO,中生成Ca(HCO3)2,中生成Fe和CO2,中生成MgO和C,中不反應(yīng),中生成Na2CO3和O2,故答案選D。3【答案】A【解析】依據(jù)化合物中元素正負(fù)化合價代數(shù)和為零,可得4+2x+4y=44+2,即x、y必須滿足關(guān)系式x+2y=21,由此可知,A項正確。4【答案】C5【答案】A【解析】二氧化硅與碳反應(yīng)生成硅和一氧化碳,四氯化硅與氫氣反應(yīng)生成硅和氯化氫,都是置換反應(yīng),硅和氯氣反應(yīng)生成四氯化硅,是化合反應(yīng),A正確;二氧化硅與碳反應(yīng)生成硅和一氧化碳,四氯化硅與氫氣反應(yīng)生成硅和氯化氫,根據(jù)還原劑的還原性大于還原產(chǎn)物的還原性,則高溫下,焦炭與氫氣的還原性均強于硅,B錯誤; 28 g硅的物質(zhì)的量為1 mol,每消耗或生成1個硅,化合價均變化4,即均轉(zhuǎn)移4個電子,所以每消耗或生成28 g硅,均轉(zhuǎn)移4 mol電子,C錯誤;在高溫下將石英砂、焦炭、氯氣、氫氣按一定比例混合,則石英砂與焦炭反應(yīng),氯氣與氫氣反應(yīng),就不再按照題干的流程進行,不會得到高純硅,D錯誤。6【答案】D【解析】CaCO3+SiO2CaSiO3+CO2,CaSiO3的熔點低于SiO2的熔點,故A項正確;光導(dǎo)纖維的主要成分是二氧化硅,硅可用于制作半導(dǎo)體、芯片,純凈的二氧化硅和單晶硅都是信息產(chǎn)業(yè)的重要基礎(chǔ)材料,故B項正確;碳酸鈣溶于鹽酸生成氯化鈣和水以及二氧化碳,二氧化硅和鹽酸不反應(yīng),可以用鹽酸除去石英砂(主要成分為SiO2)中少量的碳酸鈣,故C項正確;化學(xué)反應(yīng)前后有元素化合價發(fā)生變化的反應(yīng)一定是氧化還原反應(yīng),題圖中二氧化硅與碳反應(yīng)生成硅單質(zhì)和一氧化碳的反應(yīng)是氧化還原反應(yīng),故D項錯誤。7【答案】B二、非選擇題8解析(1)M的單質(zhì)可作半導(dǎo)體材料,含M的化合物W可用于制造光導(dǎo)纖維,可知M為Si,位于第A族,與之同族且相對原子質(zhì)量較小的是碳元素,兩者的共同點是最外層均有4個電子。(2)W為SiO2,易與氫氟酸反應(yīng)生成SiF4和H2O。(3)SiO2與純堿高溫反應(yīng)生成Na2SiO3(X)和CO2(Y)。(4)不論CaCO3是否過量,反應(yīng)生成的CO2只由CaCO3決定,由關(guān)系式CaCO3CO2得:,解得m(CaCO3)50 g,石灰石的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為100%50%。答案 (1)A 最外層均有4個電子(2)氫氟酸(或HF)SiO24HF=SiF42H2O(3)SiO2Na2CO3Na2SiO3CO2;Na2SiO3CO2H2O=Na2CO3H2SiO3 AB(4)50%9、【答案】(1)第三周期A族(2)12(3)SiHCl3H2Si(純硅)3HClSiHCl33H2OH2SiO33HClH251【解析】(1)根據(jù)硅的原子序數(shù)為14,可知其在元素周期表中位于第三周期 A族。(2)根據(jù)產(chǎn)品中單質(zhì)硅與碳化硅的物質(zhì)的量之比為11,再利用方程式計算。假設(shè)參加反應(yīng)的C為5 mol,SiO2為2 mol,則二者的質(zhì)量之比為(5 mol12 gmol1)(2 mol60 gmol1)12。(3)根據(jù)流程圖中的信息知,反應(yīng)的反應(yīng)物有SiHCl3和H2,生成物有Si(純硅)和HCl,利用觀察法將其配平。由于SiHCl3中Si為4價、H為1價、Cl為1價,SiHCl3與H2O發(fā)生了氧化還原反應(yīng)(歸中反應(yīng)),其氧化產(chǎn)物和還原產(chǎn)物均為H2,最后利用觀察法將其配平。據(jù)題意:綜合以上各反應(yīng)的數(shù)據(jù)可知,在第二輪次的生產(chǎn)中補充投入HCl的物質(zhì)的量為(3)mol,投入H2的物質(zhì)的量為(1) mol,二者的比值為51。10、【答案】(1)MnO24H2ClMn2Cl22H2O(2)平衡氣壓 濃H2SO4 SiCl4沸點較低,用冷卻液可得到液態(tài)SiCl4(3)Al、Cl、P(4)否 MnO有顏色,故不需其他指示劑 4.48%(4)因MnO本來有顏色,故不再需其他指示劑。由關(guān)系式:5Fe2 MnO 5 1n(Fe2) 20.00103 L1.000102 molL1n(Fe2)0.001 mol, w(Fe)100%4.48%。11、解析 (1)從給出的試劑看,可產(chǎn)生的氣體只有CO2和H2,CO2與Mg能反應(yīng),不能用作保護氣,因此保護氣為H2。制取H2的試劑是稀硫酸和鋅粒,濃硫酸為氣體干燥劑。(2)裝置內(nèi)的O2如果不被排出,O2與H2混合在加熱條件下會發(fā)生爆炸;移走酒精燈后反應(yīng)繼續(xù)進行,說明Mg與SiO2的反應(yīng)是放熱反應(yīng)。(3)Mg2Si與鹽酸會發(fā)生復(fù)分解反應(yīng)生成MgCl2和SiH4,SiH4常溫下可自燃。答案 (1) (2)防止在加熱條件下H2和O2混合發(fā)生爆炸 SiO2和Mg粉的反應(yīng)是放熱反應(yīng)(3)Mg2Si4HCl=2MgCl2SiH4SiH42O2=SiO22H2O

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