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1、目錄 紫外臭氧清洗機 1 ?紫外淸洗發(fā)展歷史 2. 紫外臭氧清洗的優(yōu)勢 3. 紫外臭氧清洗原理 4. 紫外臭氧淸洗匚藝 紫外清洗發(fā)展歷史 ?紫外光表ifii清洗技術(shù)在國際上是隨著光電子信 息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展而提出來的。七十年代中期美國 軍出電子技術(shù)和器件實驗室應(yīng)用紫外光照射消 洗石英晶片取得滿意的效果。九I?年代初，H 本和美國先后將UV光清洗機應(yīng)用于民用光電 子產(chǎn)品的工業(yè)生產(chǎn)過程，并開始向我國個別外 資LCD企業(yè)在要求技術(shù)保密的情況下提供UV 光清洗機。 電燈啊碟鈿斶鍛綸』騒嚴(yán)洱樣 ..._錚叢鋼淞飜躲帚有助于部件和表面的 瞬觀荷隸氣觸瓣曙解蠶匍胡嚮過程中保持 紫外清洗發(fā)展

2、歷史 ?隨后，LI本在發(fā)展紫外光衣血消洗技術(shù)的同時，紫外 光表面改質(zhì)技術(shù)也得到了發(fā)展。在二十世紀(jì)末，日木 等先進工業(yè)國家紫外光農(nóng)面消洗和改質(zhì)技術(shù)山信息產(chǎn) 業(yè)逐步擴展到金屬、塑料、橡膠等匸業(yè)牛產(chǎn)過程。二 十吐紀(jì)九十年代后期，我國的信息技術(shù)和產(chǎn)業(yè)以驚人 的速度E速發(fā)展，特別是平板顯示技術(shù)的高速發(fā)展， LCD顯示屏由TN級向STN和TFT不斷捉升，新型的 OLED顯示產(chǎn)品也開始進入市場。由此，對制爸I：藝 過程農(nóng)而質(zhì)量要求越來越嚴(yán)格，紫外光表而淸洗技術(shù) 的優(yōu)越性已經(jīng)得到廣泛認(rèn)可，UV光清洗機的需求吊止 在不斷增長。 ?紫外臭氧清洗的優(yōu)勢 MYCRO PSD系列紫外臭氧清洗機常用丁? 扌弓描探測

3、顯微鏡的樣品丿2?用.該設(shè)備能用片帯先原子力顯微 鏡探針,打描探針顯微鏡標(biāo)準(zhǔn)和衣面上常規(guī)的油漬層和殘留的無 機材料，也能' 紫外臭氧清洗效果圖 紫外臭氧清洗原理 ?原理：通過產(chǎn)生185nm利254nm高強度UV光分解尙 機分子（污染物）o 185nm波長紫外光的光能量能將 宇氣中的氧氣（02）分解成臭氧（03）,而254nm 波長的紫外光的光能量能將03分解成02和活性氧 （0） o在連續(xù)進行的光敏氧化反應(yīng)中，生成的活性 氣原子與活化了的有機物（即碳?xì)浠衔铮┓肿影l(fā)生 氧化反應(yīng),生成揮發(fā)性氣體（如CO2, CO, H2O, NO等）逸出物體表面，從而徹底清除粘附在物體表面 上的

4、有機污染物，達(dá)到清洗的H的。 ?紫外光衣而改質(zhì) 低爪報外汞燈發(fā)射的185nm和254nm波長的紫外光除仃詁洗左除物 騎測附躅邵隨孫劇縄跚疏般恫「 6匚$!巴（頭黑幅瑚嫦#厲,‘ °1卜「」計lL'f戕除胡舊紹烏果 顯淸,活化的購體農(nóng)面具有良好的粘合力籾鍵合待性,這飛斤棊和涂料、 幫鉀辭威籲鵜誡勢敷鑫胡醯鱸魏蠶通' 打齊鬲衿芋虻匸如* CM ——》o4-o ?紫外光表而改質(zhì)原理表達(dá)式: 丁Fb CHO. COCH 萼 f umhf ?? *? ri? r njoirm E：為緊外線比了能以 紫外臭氧清洗工藝 ?用于納米技術(shù)，化學(xué)，牛物學(xué)，光學(xué)，電子學(xué), 半導(dǎo)體和實驗室。 ?樣品材料:硅氧化硅 金屬側(cè)化傢氮化硅云母 陶瓷聚合物（有機玻璃）硼硅玻璃石英藍(lán)寶 石其他材料 紫外臭氧清洗工藝 ?典型應(yīng)用包括： ?衣面的原子級清洗 ?聚合物需接 ?去除冇機分了 ?釋放捕獲的無機分了 ?微流控制作 ?微米/納來初型 ?紫外光固化 ?畏茴化學(xué)衣性 ?表面殺菌 ?表面氧化 ?金屬粘結(jié)準(zhǔn)備……